Née en 1986 à Opole, Pologne. Vit et travaille à Varsovie, Pologne.

Anna Orlowska a obtenu sa maîtrise en art au département de la photographie de la National Film School, à Lodz, en Pologne, en 2011, ainsi qu’un diplôme de deuxième cycle de l’Institute of Creative Photography à Opava, en République tchèque, en 2013. Elle a participé à de nombreuses expositions collectives, dont reGeneration2: Tomorrow’s Photographers Today, présenté au musée de l’élysée à Lausanne, en Suisse, ainsi qu’à l’Aperture Foundation à New York. En 2013, elle a reçu une bourse pour une résidence à la School of Visual Arts de New York. Son œuvre a fait l’objet de plusieurs expositions monographiques, dont Case Study: Invisibility au Josef Sudek studio, à Prague, et à la galerie Asymetria, à Varsovie, et, plus récemment, Leakage and Other Works, au Panoptikon, à Stockholm.